通常認(rèn)為,下頜義齒舌側(cè)邊緣位置設(shè)計(jì)在下頜舌骨肌嵴下2～4mm處。我們從下頜舌骨嵴與下頜舌骨肌的解剖關(guān)系角度進(jìn)行分析(圖4-25)。上條彥著認(rèn)為,下頜舌骨肌在咀嚼運(yùn)動(dòng)時(shí)有牽拉、轉(zhuǎn)動(dòng)舌骨的作用。如果義齒基托壓在這塊肌肉上,吞...[繼續(xù)閱讀]

    上頜(圖4-28)在模型上標(biāo)記基托邊緣線(xiàn)后,在最小范圍內(nèi)用紅蠟片完成填倒凹。緩沖過(guò)多容易導(dǎo)致暫基托吸附力下降。圖4-28 上前牙唇側(cè)部位有側(cè)凹,其余部位無(wú)明顯倒凹。用紅蠟緩沖上前牙唇側(cè)部位的倒凹下頜(圖4-29)在模型上標(biāo)記基托...[繼續(xù)閱讀]

    上頜(圖4-30)填倒凹后,在模型表面用凡士林或?qū)Ｓ媚Ｐ头蛛x劑均勻涂薄薄一層,使用專(zhuān)用自凝樹(shù)脂制作暫基托。上腭部分厚度1.5mm、均勻一致,基托邊緣厚度根據(jù)模型上前庭溝形態(tài)確定,厚度常常大于1.5mm。圖4-30 為了便于暫基托與石膏模...[繼續(xù)閱讀]

    上頜(圖4-32)、下頜(圖4-33)圖4-32 上頜暫基托外形修整、完成圖4-33 下頜暫基托外形修整、完成...[繼續(xù)閱讀]

    標(biāo)準(zhǔn)蠟堤的高度:上頜蠟堤平面前部到上前牙唇側(cè)黏膜反折處最低點(diǎn)垂直距離為22mm,后部到翼上頜切跡垂直距離為5mm;下頜蠟堤平面前部到下前牙唇側(cè)黏膜反折處最低點(diǎn)垂直距離為18mm,后部與磨牙后墊最后緣終止處平齊。蠟堤上頜前牙...[繼續(xù)閱讀]

    無(wú)牙頜平面確定標(biāo)準(zhǔn):利用平面板,使上頜蠟堤的前部與患者左右瞳孔連線(xiàn)平行為基準(zhǔn),并要在上唇下緣下1～2mm,側(cè)面參照鼻翼耳屏面。不必過(guò)分強(qiáng)調(diào)平面與鼻翼耳屏面的平行關(guān)系,但必須重視平面左右側(cè)水平無(wú)偏斜(圖5-1～圖5-4)。圖5-...[繼續(xù)閱讀]

    ①面部測(cè)量方法:最具代表性的是Willis法,也叫面部比例法,即自然牙列咬壓正中頜位時(shí),上、下唇呈自然接觸閉合,從眼裂到口裂的垂直距離與鼻底到頦底的距離基本相等。觀察咬肌和頰肌在自然狀態(tài)下,面下部垂直距離與面中部1/3垂直...[繼續(xù)閱讀]

    ①卷舌后舔法:臨床上常在上頜基托后緣中部粘固一個(gè)直徑約5mm的小蠟球,當(dāng)舌卷向上方舔舐蠟球時(shí),舌向后上方牽拉舌骨,舌骨連帶下頜舌骨肌牽拉下頜后退,使髁突處于生理后位。該方法容易使下頜過(guò)度后退,為了防止這一點(diǎn),在上腭部...[繼續(xù)閱讀]

    (圖5-15～圖5-19)圖5-15 遵循Bonwill三角設(shè)計(jì)的Hanau架。架髁突間距為10cm。架的種類(lèi)不同,髁突間距有10cm、10.5cm、11cm等圖5-16 遵循Balkwill原理設(shè)計(jì)的咬合平面板圖5-17 遵循Bonwill三角和Balkwill角決定模型的放置位置圖5-18 遵循Bonwill三角上平...[繼續(xù)閱讀]

    通常情況,有牙頜患者平面常參考眶耳平面,無(wú)牙頜患者常參考鼻翼耳屏面。圖5-25 吉爾巴赫面弓結(jié)構(gòu)中有一個(gè)萬(wàn)向軸,位置確定后只鎖住這個(gè)位置圖5-26 設(shè)定眶耳平面時(shí)圖5-27 設(shè)定鼻翼耳屏面時(shí)圖5-28 將面弓的耳球放到外耳道內(nèi)圖5...[繼續(xù)閱讀]