制備超薄金屬透明導(dǎo)電膜的研究進(jìn)展

摘要： 隨著柔性光電子器件的迅速發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)透明導(dǎo)電薄膜提出了更高的要求。超薄金屬薄膜具有優(yōu)越的光電性能和良好的機(jī)械穩(wěn)定性，成為了替代銦錫氧化物的理想材料。然而金屬薄膜在基底上常為三維島狀生長(zhǎng)模式，制備高導(dǎo)電性和透光性的金屬薄膜具有很大的挑戰(zhàn)。目前常見的制備超薄金屬薄膜的方法有預(yù)沉積金屬種子層、基底表面改性、摻雜、低溫基底等。其中基底表面改性通過在基底上形成能與基底和薄膜產(chǎn)生鍵合作用的...