一種P-GaN柵結(jié)合混合帽層結(jié)構(gòu)的HEMT器件
微電子學(xué)
頁數(shù): 7 2023-08-20
摘要: 為了進(jìn)一步提升P-GaN柵HEMT器件的閾值電壓和擊穿電壓,提出了一種具有P-GaN柵結(jié)合混合摻雜帽層結(jié)構(gòu)的氮化鎵高電子遷移率晶體管(HEMT)。新器件利用混合摻雜帽層結(jié)構(gòu),調(diào)節(jié)整體極化效應(yīng),可以進(jìn)一步耗盡混合帽層下方溝道區(qū)域的二維電子氣,提升閾值電壓。在反向阻斷狀態(tài)下,混合帽層可以調(diào)節(jié)柵極右側(cè)電場分布,改善柵邊電場集中現(xiàn)象,提高器件的擊穿電壓。利用Sentaurus TCAD...