基于改進Gerchberg-Saxton算法的全息雙面光刻方法

摘要： 針對目前雙面微器件加工方法步驟繁瑣、效率低的問題，提出基于改進Gerchberg-Saxton(GS)算法的全息雙面光刻方法，使用單個光源在玻璃基底的上下表面同時曝光，進行雙面圖形的制作。該方法通過計算不同軸向位置圖案對應的組合全息圖，并將其加載到空間光調制器（LCOS-SLM）上，對入射光場進行調制，從而在目標空間內實現(xiàn)雙面圖形重現(xiàn)。采用改進GS算法對距離焦面2 mm處的圖案...