有源區(qū)Be摻雜對(duì)1.3μm InAs量子點(diǎn)激光器性能的影響
紅外與毫米波學(xué)報(bào)
頁數(shù): 7 2023-08-15
摘要: 利用分子束外延技術(shù)在GaAs(100)襯底上生長了1.3μm InAs DWELL量子點(diǎn)激光器結(jié)構(gòu),研究了有源區(qū)Be摻雜對(duì)量子點(diǎn)激光器性能的影響。研究表明,對(duì)有源區(qū)進(jìn)行Be摻雜可以有效降低InAs量子點(diǎn)激光器的閾值電流密度,提升激光器的輸出功率,增加激光器的溫度穩(wěn)定性。研制的Be摻雜InAs量子點(diǎn)激光器的閾值電流降低到12mA,相應(yīng)的閾值電流密度僅為100 A/cm~2,激光器...