Nd摻雜HfO2薄膜的分子束外延制備及鐵電性
硅酸鹽學(xué)報(bào)
頁數(shù): 7 2023-09-11
摘要: 摻雜Hf O
2鐵電薄膜在非易失性存儲(chǔ)器件中的重要應(yīng)用前景使其成為當(dāng)前凝聚態(tài)物理與材料科學(xué)領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。近年來,結(jié)果表明:La摻雜Hf O
2擁有優(yōu)異的鐵電性能,鐵電剩余極化強(qiáng)度為45μC/cm~2,是目前Hf O
2基薄膜材料中報(bào)道的最高值。由于Nd與La的化學(xué)性質(zhì)相近,Nd摻雜同樣有望增強(qiáng)HfO
2的鐵電性,但相關(guān)研究工作卻鮮有報(bào)道。使用氧化物分子束外延技術(shù),在La_...