錐面鏡磁流變拋光去除函數(shù)畸變規(guī)律分析與演繹

摘要： 磁流變拋光是實(shí)現(xiàn)錐鏡低表面損傷、面形誤差高效抑制的重要工藝，然而錐面磁流變拋光去除函數(shù)畸變嚴(yán)重、畸變規(guī)律復(fù)雜，而現(xiàn)有方法難以直接有效建立其去除函數(shù)模型，導(dǎo)致面形收斂效率低下。本文分析了錐面曲率效應(yīng)對(duì)磁流變拋光去除函數(shù)畸變的影響機(jī)制，研究去除函數(shù)的基準(zhǔn)化特征參數(shù)關(guān)于平均曲率的解析規(guī)律，建立了由平面到錐面的磁流變拋光去除函數(shù)演繹方法。該方法將錐面去除函數(shù)的長(zhǎng)寬、體去除率、峰去除率演...