基于掩膜相位板的鼻內(nèi)鏡成像優(yōu)化研究
光學技術
頁數(shù): 5 2023-07-15
摘要: 我國鼻內(nèi)窺鏡受加工,裝調(diào)等因素的影響,內(nèi)窺鏡在實際使用時的分辨率及像差情況要明顯差于設計水平,論文經(jīng)過公差分析,得出偏心公差對結果影響巨大,基于以上問題,文章在設計的一款視場角為80°,入瞳直徑為0.2mm的鼻竇物鏡基礎上,模擬裝調(diào)誤差,提出在不改變裝調(diào)后鼻竇物鏡機械結構的前提下,在物鏡保護玻璃前方加入掩膜相位板補償裝調(diào)誤差導致的成像質(zhì)量下降;從設計結果可知,添加掩膜相位板后系...