光刻膠掩膜材料超光滑表面切削

摘要： 鑒于以光刻膠為代表的高分子材料的切削特性決定了掩膜微細(xì)結(jié)構(gòu)的加工質(zhì)量，以SU8為研究對(duì)象，結(jié)合實(shí)驗(yàn)和仿真分析研究了光刻膠掩膜的切削特性。通過(guò)納米壓痕法測(cè)試了光刻膠SU8的應(yīng)力-應(yīng)變關(guān)系，建立了基于能量法的SU8切削仿真模型，然后采用AdvantEdge FEM模擬了不同切削參數(shù)下光刻膠SU8的切削過(guò)程，最后開(kāi)展了光刻膠SU8的超精密加工實(shí)驗(yàn)。結(jié)合仿真與實(shí)驗(yàn)結(jié)果，分析了切削參數(shù)和...