基于光柵制造的光刻投影物鏡設(shè)計

摘要： 光柵尺作為位移傳感器被廣泛應(yīng)用在精密測量體系中，隨著測量趨于納米級精度和大量程，對光柵尺的制造精度提出了更高的要求。刻線誤差是影響光柵尺制造精度的重要因素，減小刻線誤差能夠有效提高光柵制造精度。設(shè)計了一種大孔徑、低畸變的投影光刻物鏡，并在Zemax光學(xué)設(shè)計軟件中對物鏡進行了設(shè)計及優(yōu)化。結(jié)果顯示，其全視場波像差小于λ/10,MTF>0.6,最大畸變<0.0037%,最大分辨率R=...