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硅微透鏡陣列的制備工藝
半導(dǎo)體光電
頁數(shù): 6
2023-06-15
摘要:
開發(fā)了一種和MEMS工藝兼容的基于硅微加工技術(shù)的簡易硅微透鏡陣列制造技術(shù)。利用光刻膠熱熔法和等離子體刻蝕法相結(jié)合的方法,實現(xiàn)了在硅晶圓上制作不同尺寸的硅微透鏡陣列的工藝過程。實驗中,對透鏡制作過程中的熱熔工藝、刻蝕工藝進行了深入的研究。最終確定了最優(yōu)的工藝參數(shù),制備了孔徑在20~90μm、表面質(zhì)量高的硅微透鏡陣列。
下載PDF原文【1582K】
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